▲晶圓生產設備被稱為「工業皇冠上的明珠」。(圖/CFP)
軍武中心/台北報導
中國資訊產業長年處於「缺芯少魂」的困境,多少也牽制尖端武器的量產。為了加速對極紫外光(EUV)光刻機製造的突破,中國科學院長春光機所年度公開招聘中,對博士特別研究助理的薪資「上不封頂」;至於先前受美國「制裁」之苦的華為,也攜手晶片製造設備開發商新凱來,外傳已研發出具有專利的EUV微影設備。
據中國半導體行業協會統計,2024年國產光刻機零部件自主化率,已提升到70%以上,不過這些都屬於製造中低端晶片的機件零組件,距離荷蘭大廠ASML的EUV光刻設備,還有非常大的差距,依然未能擺脫「缺芯少魂」的束縛。
▲在晶片生產製程上最重要的設備「光刻機」。(圖/翻攝環球網)
不過,從今年以來,大陸一直傳出在EUV有重大突破,似乎極不尋常。最初是哈爾濱工業大學宣布,突破13.5納米極紫外光源技術,打破西方技術封鎖,也為大陸的國產EUV光刻機製造帶來信心。
緊接著,科技平台 WccfTech報導,據@zephyr_z9和@Ma_WuKong在X平台的發文,總部設在廣東東莞的華為,攜手深圳的半導體設備製造商「新凱來」,測試新設備,這款客製化EUV機台,採用「雷射誘導放電電漿」(LDP) 技術,網路上甚至還出現「外流」照片,並研判可能在第3季試產,明年實現量產。
▲半導體生產製造是極為精密的產業。(圖/翻攝自深圳新凱來技術公司)
對於這些訊息,儘管外界仍多審慎以對,但也不敢輕忽,主因是大陸對於重大攻關項目,慣常以「舉國體制」來實現,同時地方各省也會自組團隊,彼此競爭,而今年又是《中國製造2025》的收官之年,各團隊若要交出成績單,勢必會在「適當時機」官宣,快的話,有可能在7、8月正式發布。
還有一個重要觀察指標是,中國官方在2月17日舉辦最高規格的民營企業座談會。《人民日報》隨即以頭版刊出企業家在會上的發言,其中,華為創辦人任正非對國家主席習近平表示,儘管中國在智慧駕駛、半導體等領域取得顯著進展,仍需警惕「表面的繁榮掩蓋內功不足」, 但是中國曾經「缺芯少魂」的憂慮已經減弱了。
「缺芯少魂」,最早原句為「中國資訊產業缺芯少魂」,是中國科技部部長徐冠華於1999年說的,「缺芯」指的是「芯片(晶片),「少魂」則是指作業系統等軟體。目前美中科技戰依舊持續,川普何時還會繼續出招,無人能夠預料,但中國若能在EUV機台實現突破,美中科技戰或許會改以其他形式纏鬥,當然也有可能突然迎向大和解。